弘通为中科院半导体研究所研发设计恒压/恒流直

北京弘通公司研发部，根据中科院半导体研究所张老师提供的数据和需求，为研究所离子注入机研发设计0-5V 300A 恒流源，和150V 10A 恒压源，0~5V模拟量控制，保证了离子注入机的稳定工作，在孙工的协助下现场经过2个多小时调试安装，顺利成功.为美国设计的半导体注入机加入中国元素，体现了弘通在直流电源方面和研发实力和技术优势。相信未来，弘通直流电源不断替换国外竞品，超越国外技术，成为行业一流原创技术企业.
1956年，在我国十二年科学技术发展远景规划中，半导体科学技术被列为当时国家新技术四大紧急措施之一。

为了创建中国半导体科学技术的研究发展基地，国家于1960年9月6日在北京成立中国科学院半导体研究所（以下简称半导体所），开启了中国半导体科学技术的发展之路。半导体研究所现有职工690余名，其中科技人员480余名，中国科学院院士8名，中国工程院院士2名，正副研究员及高级工程技术人员209名，“百人计划”入选者及国家“杰青”获得者44人次、国家百千万人才工程入选者6名。其中黄昆先生荣获2001年度国家最高科学技术奖。设有3个博士后流动站，3个一级学科博士培养点，3个工程硕士培养点。

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